1、高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。
2、低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。
3、本论文对真空蒸发法和直流溅射法沉积锌膜的工艺进行了研究，结合XRD、SEM、AFM等分析手段，以探索这两种方法在制备锌膜方面的一般规律。
4、用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。
5、与常用的电镀法和室温溅射法相比，大幅度的降低了电极的载铂量，减小了电池的制作成本。
6、分析了氘饱和状态下液态锂作为包层流动液帘表面的溅射问题，得到了氘饱和状态下液态和固态锂的溅射产额。
7、应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。